當(dāng)激光束照射到顆粒上時(shí)，光線會(huì)發(fā)生散射，散射光的角度與顆粒的大小成反比。干法激光粒度分析儀通過(guò)收集并分析這些散射光的分布信息，能夠計(jì)算出顆粒的粒徑分布。這一過(guò)程中，無(wú)需將樣品分散在液體介質(zhì)中，從而避免了介質(zhì)對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。

主要特點(diǎn)：

無(wú)需樣品前處理：干法測(cè)量省去了濕法中復(fù)雜的樣品分散與稀釋步驟，操作簡(jiǎn)便快捷，尤其適合測(cè)量易溶于水或易吸濕的樣品。

避免介質(zhì)影響：不使用任何分散介質(zhì)，測(cè)量結(jié)果不受介質(zhì)性質(zhì)（如折射率、粘度等）的干擾，提高了測(cè)量的準(zhǔn)確性。

環(huán)境友好：減少了化學(xué)試劑的使用，降低了環(huán)境污染風(fēng)險(xiǎn)，符合綠色化學(xué)的發(fā)展趨勢(shì)。

測(cè)試速度快：能夠在短時(shí)間內(nèi)測(cè)定大量樣品，適合需要快速獲得結(jié)果的場(chǎng)景。

產(chǎn)品參數(shù)：

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測(cè)量原理：全量程激光衍射；

粒徑范圍：0.1um~800um(全量程測(cè)試)；

探測(cè)系統(tǒng)：76通道均勻交叉及面積補(bǔ)償多方位陣列；

激光器：進(jìn)口大功率光纖輸出半導(dǎo)體激光器，波長(zhǎng)635nm、功率最大20mw；

光學(xué)模型：全量程全部米氏散射理論，包含高濃度多重散射動(dòng)態(tài)補(bǔ)償技術(shù)；

濾波方式：三鏡頭技術(shù)，正.反傅里葉變換鏡頭＋濾波鏡頭；

采集主板：16bit，200kps超高速采集主板，全新一代同時(shí)采集主板；

濃度范圍：遮光度3%，最高遮光度90%(光學(xué)濃度)；

鏡頭：特殊鍍膜工藝處理，光信號(hào)透過(guò)率>99.7%；

光學(xué)對(duì)中系統(tǒng)：機(jī)械中心＋光學(xué)中心雙定位全自動(dòng)對(duì)中系統(tǒng)；

測(cè)量時(shí)間：典型值<10秒；

測(cè)量精度：準(zhǔn)確性、重復(fù)性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標(biāo)準(zhǔn)樣品)；

測(cè)量方式：全自動(dòng)測(cè)量

環(huán)境溫度：0°c~45°C；

環(huán)境濕度：10%~-85%相對(duì)濕度(無(wú)結(jié)凝)；

電源要求：110V~240V(±20V)，5OHz~60Hz；

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T19077-2016/ISO13320:2009；

外觀尺寸：700mm×495mm×300mm；

儀器重量：35kg。

適用范圍：

干法激光粒度分析儀被廣泛應(yīng)用于各種金屬、非金屬粉︰如重鈣、輕鈣、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤(rùn)土、硅藻土、黏土、二氧化硅、石榴石、硅酸錯(cuò)、氧化錯(cuò)、氧化鎂、氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛?、各種粉末類樣品。